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本公司谨重许诺!假一赔十!无效赔十倍!十天包换!一个月包退,安装即可. 记者丨何己派 鄢子为 编辑丨鄢子为 中国刻蚀机之父,筹划一桩交易。 12月19日,尹志尧掌舵的中微公司称 ,拟发行股份,购买“杭州众硅”控股权 。 其行动迅速,已与标的股东杭州众芯硅工贸、上海宁容海川等签署《购买资产意向协议》。 作为买方 ,中微头顶技术光环,产业资源丰富。其董事长尹志尧,为顶尖半导体专家 ,60岁时创办中微,专注研发刻蚀设备 。 经过21年的攻坚,他带出一家市值超1700亿元的芯片设备龙头 ,且6年来已投资30多家产业链标的。此次,尹志尧即将再下一城,沿着“平台化 ”路径狂奔。 “此次筹划收购,绝非简单的规模扩张 ,而是中微基于行业发展规律和自身阶段作出的审慎决策。”芯谋研究首席分析师顾文军向《21CBR》记者解释 。 1 老骥伏枥 现年81岁的尹志尧,长期奔波在一线,干劲十足。 4月 ,他撰写《董事长致辞》,强调中微的目标,是成为“国际一流半导体设备公司” ,并给团队打气,称“目标一定能实现 ”。 其精神矍铄,今年以来 ,多次带着管理层,接待投资机构,规划未来 。 中微董事长尹志尧 “我们计划 ,通过外延收购和内生研发的方式,覆盖超六成的半导体前道设备品类。”管理层5月指出,对收购机会,中微保持积极且开放的态度。 中微并购经验丰富 。 尹志尧曾列出一组数据 ,上市以来,公司投资了30多家产业链上下游企业,斥资20多亿 ,浮盈50多亿,实现良好的经济效益和战略协同效果;参股的8家企业,已在A股上市。 临近年底 ,中微再度出手。 其看中的杭州众硅,成立于2018年,早就跻身“独角兽”之列 ,擅长制造高端CMP(化学机械平坦化抛光)设备 。 CMP属于芯片制造的前道工序,可以理解为“抛光打磨 ”技术,即把芯片压在旋转的抛光垫上 ,一边靠细小磨料做物理研磨,一边靠化学试剂腐蚀芯片表面,共同将表面磨平整。 杭州众硅的设备,已获客户认可 ,陆续中标上海新微、云南创视界光电科技的订单,还被评为杭州士兰集昕的优秀供应商。 值得注意的是,中微本就是其第二大股东 ,持股12%;尹志尧本人还于9月,进入杭州众硅管理层,担任董事 。 当前 ,半导体产业整合更注重战略协同与技术补强,而非单纯的资本扩张。 “中微此次筹划收购,是经过长期观察 、先期战略投资后的稳步推进 ,核心目的在于‘补全’与‘强化’。” 顾文军告诉记者,杭州众硅主攻湿法工艺,在技术上具有稀缺性和互补性。 “交易价格将以资产评估报告为基础 ,经各方协商确定 。”公告补充,仅达成初步意向。尹志尧团队将在签署正式协议后,发布详细方案。 2 剑指平台 尹志尧是中微的灵魂人物,履历丰富 。 他是北京人 ,本科毕业于中科大,后拿到加州洛杉矶分校博士学位。 40岁那年,他作为第一个中国留学生加入英特尔 ,二十年后,毅然放弃百万年薪,带领十五位同仁飞抵上海浦东 ,开启创业。 《21CBR》记者注意到,2024年财报显示,尹志尧已放弃美国国籍 ,恢复中国籍 。 这位“发明家创始人 ”,正带领中微冲刺新目标。 他计划用五至十年,逐步覆盖半导体高端设备的50%-60% ,推动中微尽早转型高端设备平台化公司。 到2035年,中微要进入全球半导体设备第一梯队 。 10月底,尹志尧提到,中微拥有三十多种设备 ,覆盖半导体高端设备的25%-30%。结合进程来看,若达成目标,他将实现“再造一个中微”。 加紧赶路 ,尹一手抓并购,一手抓研发 。 目前,中微的在研项目涵盖六类设备 ,同时开发超二十款新设备,速度显著加快。 过去,其通常需要3-5年开发一款新设备 ,现只需两年或更短时间完成新品开发,并迅速量产。官方称,未来数年 ,将加速、大规模推出多种新品。 走向平台化,其重要的产品抓手,在于薄膜沉积设备 。 2025年9月,尹志尧一口气发布6款新品 ,其中有四款是薄膜沉积设备。 1-9月,其薄膜设备收入,体量已有4个多亿 ,同比增速高达13倍。 这块业务,于2010年开始布局,近两年开发的新产品——LPCVD和ALD薄膜设备 ,已进入市场,并获得重复性订单 。 按计划,中微未来要开发约40种导体薄膜设备 ,覆盖全部类别的先进金属应用。 “我们很快将会把国际对国内禁运的20多种薄膜设备开发完成,预计到2029年,完成所有开发。”尹志尧5月表示 。 3 提速扩张 尹志尧围绕平台化的大干快上 ,在于设备生意迎来好周期。 芯片制造,离不开“三剑客”,光刻机、刻蚀机 、薄膜沉积设备。 打个比方,光刻机是打草稿的“画笔 ” ,刻蚀机是“雕刻刀”,薄膜沉积设备则是给晶圆贴材料的“油漆刷” 。 微观器件越做越小,结构从2D转到3D ,带来刻蚀跟薄膜的应用总量跟步骤数,大幅增加。 市场对这两类设备的需求量大增,这是中微业绩强劲增长的底层动力。 从规模来看 ,刻蚀设备仍是主力,贡献超75%收入 。尹志尧主导下,中微已开发3代、18款刻蚀机 ,持续巩固基本盘。 其等离子体刻蚀已批量出货给国内存储、逻辑等客户产线,截至2025年上半年,CCP刻蚀设备累计装机量超4500个反应台 ,ICP刻蚀设备累计装机量超1200个反应台。 目前,业内量产所用刻蚀机的深宽比在60:1,尹志尧团队正在突破90到100:1的深孔刻蚀。 扩大产品覆盖面的同时,尹志尧加紧提高产能 。 南昌生产研发基地 、上海临港生产研发基地 ,均已投入使用,产能大幅提升;上海临港滴水湖畔,占地约10万平方米的总部大楼暨研发中心 ,也在顺利建设。 这三块基地,合计新增总面积将达42万平方米,较2022年 ,新增15倍。 为确保今后十年有足够的厂房,保障新品研发和产能高速增长,中微规划 ,在广州增城区及成都高新区,落地新生产基地,且已开工 。 扩地 ,也增员。 截至6月底,中微员工大幅增至2638人。管理层预计,2025年也将保持稳定的人员增速 。 投人投钱,外部并购、自主研发双线并行 ,这位半导体专家期待抓住机遇,再一次突围。
【央视新闻客户端】




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